光刻胶涂布、固化及曝光设备

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主要技术规格

型号: 光刻胶涂布、固化及曝光设备; 光刻胶涂布、固化及曝光设备

总功率（kw）: 10Kw; 10Kw

机器尺寸（mm）: L3450×W2800×H2600mm; L3450×W2800×H2600mm

光刻胶涂布、固化及曝光设备
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概述

光刻胶涂布设备应用于碲化镉薄膜电池和硅片等其他平面性产品的光刻类材料涂覆生产线，其功能是通过自动供液系统与涂布系统将光刻胶溶液涂覆在基板上形成均匀的膜面，并通过预固化系统与UV曝光系统对膜面进行固化和特定区域的曝光。